SESSIONS PLENIERES MINATEC |
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Des conférenciers de réputation internationale, venus du monde de la recherche et de l’industrie, ouvriront le congrès en vous exposant leur point de vue sur le futur des micro et nanotechnologies. Invité spécial : M. Roco, NSF. |
10ème LETI ANNUAL REVIEW |
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Basée sur l’intervention d’experts internationaux et de chercheurs du laboratoire, la revue annuelle du CEA-Léti permet de faire un analyse globale et une revue de l’état de l’art des micro et nanotechnologies et de leur application dans les domaines de l’imagerie, la santé & la biologie, les communications & les objets communicants. |
M4NANO 1day Symposium : Modelling for Nanotechnologies |
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L’atelier M4NANO sera consacré aux challenges de la simulation des derniers MOFSETS, des nanotubes de carbone, des nanofils semi-conducteurs, des composés organiques quasi-1D, des matériaux 2D basés sur le graphène, des cristaux moléculaires ou des biomolécules telles que l’ADN. |
Séminaire de l’OMNT : " Nanomécanique pour les NEMS, état de l’art scientifique et technologique " |
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L’Observatoire des micro et nanotechnologies propose deux journées d’information et d’échanges dans le domaine des nanosystèmes électromécaniques (NEMS). A travers quatre sessions thématiques, vous serez informés de l’avancement scientifique et technologique par les spécialistes internationaux les plus réputés. |
Conférences de Grenoble INP |
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Deux conférences présenteront respectivement l’activité de recherche des laboratoires universitaires de Minatec et les nouvelles filières de formation aux nanosciences et nanotechnologies. Par voie d’affiches, les doctorants de 3ème année travaillant dans ces domaines seront invités à présenter l’avancement de leurs travaux de recherche. |
L'expertise des partenaires de MINALOGIC dans le domaine des capteurs et du traitement de l’image |
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Le pôle de compétitivité Minalogic pour les micro et nanotechnologies et les logiciels embarqués, compte parmi ses membres des leaders mondiaux dans le domaine des technologies de l’image. Ils présenteront leurs travaux à l’occasion de ces conférences. |
Séminaire EMC3D |
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Les avantages de l’intégration 3D qui permet la réduction de la taille, du poids et du coût des composants électroniques seront présentés au cours de ce séminaire. |
L'atelier D43D - "D43D System design for 3D silicon intergration Workshop" |
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Cet atelier consacré à l’intégration 3D sur silicium va réunir des acteurs clés des industries des semi-conducteurs, des systèmes domestiques et de la conception des circuits intégrés pour donner leur vision du futur de ces domaines. |
Séminaire MATRI - L’anticipation des compétences |
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Ce séminaire permettra aux acteurs industriels, partenaires sociaux et territoriaux de prendre connaissance et de discuter les résultats de deux projets en cours sur le thème de la nécessaire anticipation des compétences dans le cadre de projets innovants afin de renforcer les chances de succès des projets et de consolider les emplois et compétences locales. |
Workshop EC L2F (Electrical Characterization from Lab to Fab) |
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The increasing complexity of ultimate CMOS devices, and new semiconductor technologies, requires fast and accurate electrical characterizations either in R&D laboratories or for in line fabrication follow up. Therefore this workshop will widely consider the automated electrical measurements field. |